可见，多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣，为了尽可能 地发挥它们各自的优越性，实现互补，将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底，然后利用磁控溅射法增厚涂层，后再利用多弧镀达到终稳定的表面涂层颜色的新方法。
大约在八十年代中后期，出现了热阴极电子蒸发离子镀、热阴极弧磁控等离子镀膜机，应用效果很好，使TiN 涂层刀具很快得到普及性应用。
电子束蒸发镀膜
利用高速电子束加热使材料汽化蒸发，亳州镀钛加工服务电话，在基片表面凝结成膜的技术。电子束热源的能量密度可达104-109w/cm2，表面镀钛加工服务电话，可达到3000℃以上，可蒸发高熔点的金属或介电材料如钨、钼、锗、SiO2、AL2O3等。
电子束加热的蒸镀源有直型电子和e型电子两种(也有环行)，真空镀钛加工服务电话，电子束自源发出，用磁场线圈使电子束聚焦和偏转，对膜料进行轰击和加热。
PVD (Physical Vapor Deition) 即物理气相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的PVD镀膜 ，指的就是真空离子镀膜；通常说的NCVM镀膜，就是指真空蒸发镀膜和真空溅射镀。真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，电子束轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历，真空蒸镀是PVD法中使用早的技术。
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